セラミックス穴あけ装置

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セラミックス穴あけ装置

セラミックス穴あけ装置

  • 穴あけ
  • セラミック

特徴
・QCWファイバーレーザーを搭載したセラミックス基板の穴あけに特化
・アライメント、基板の自動搬送に対応
・真円度>85%のテーパーを抑えた穴あけが可能

用途
・アルミナ(Al2O3)、窒化アルミ(AlN)、ジルコニア(ZrO2)などのセラミックス基板のスクライブ、切断、穴あけ
・厚膜、薄膜の抵抗基板のスクライブ、切断
・ステンレス箔や銅箔の切断、穴あけ

スペック
ヘッド数 1ヘッド/2ヘッド
加工面積(mm) 250×250/450×450(カスタマイズ可能)
位置精度 ±2 μm
繰り返し精度 ±2 μm
穴あけ速度 2ヘッド: 15穴/秒
3ヘッド: 30穴/秒

500μm穴

120μm穴

90μm穴

40μm穴

断面

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株式会社デルファイレーザージャパン

03-5735-0532

平日 9:00~17:00

〒144-0042東京都大田区羽田旭町2-1 コーピアス旭町1F

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